埚位远近对液面温度的影响主要体现在热传导和辐射传热的综合效应上。当埚位较远时，坩埚的热辐射散失相对较少，更多的热量用于提升液温；而接近坩埚的区域由于直接受热，其液体升温更快。因此可以得出结论：在引放的时候，埚位越小（近），液温越高。
对于补埚过程而言，随着埚位的增加或减少，系统整体温度会有所波动，但这种变化是暂时的、局部的。界面结晶速度主要与系统温度梯度有关，通常不会因为单纯的埚位改变而有明显差异。
等径过程中，如果以坩埚为中心向外扩展，那么远离坩埚的位置会受到逐渐减弱的热影响，导致结晶速率随距离增大而减小。反之亦然，靠近坩埚位置的晶体生长将加快。